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| 본체 재질: | 304L 또는 316L 스테인리스강 | 표면 마감: | 전해연마(Ra ≤0.4μm) |
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| 궁극의 압력: | ≤1x10 -8 Pa | 플랜지 종류: | CF(ConFlat) 표준 |
| 밀폐 메커니즘: | OFHC 구리 가스켓 | 베이크아웃 온도: | 최대 250°C |
| 강조하다: | UHV 진공 챔버,전해 연마 진공 인클로저,저탈기 진공 탱크 |
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이 UHV 등급 전해 연마 스테인리스강 진공 챔버는 반도체 공정, 표면 과학 연구 및 고급 재료 특성화 분야의 초고진공 응용 분야를 위해 특별히 제작되었습니다. 저탄소 304L 또는 316L 스테인리스강으로 제작된 이 챔버는 표면 거칠기 평균(Ra)이 0.4μm 이하인 완전히 전해 연마된 내부 표면을 특징으로 하여 유효 표면적을 크게 줄이고 분자 탈기스를 최소화합니다. 모든 플랜지는 CF(ConFlat) 표준을 준수하며 산소 무함유 고전도성(OFHC) 구리 개스킷 밀봉을 사용하여 1x10⁻⁸ Pa 이하의 압력에서도 안정적인 작동을 가능하게 합니다. 모든 챔버는 출하 전에 세심하게 헬륨 누출 테스트 및 진공 베이킹을 거쳐 가장 오염에 민감한 실험 및 생산 환경에 대한 즉시 사용 가능한 UHV 준비 상태를 보장합니다.생산 유형전해 연마 내부 표면:
전체 내부 표면은 제어된 전해 연마 공정을 거쳐 Ra ≤0.4μm를 달성하여 수증기 흡착을 줄이고 UHV 압력까지 펌핑 시간을 단축하며 기계적으로 연마된 대안에 비해 달성 가능한 기본 압력을 낮춥니다.| 플랜지 표준 | OFHC 구리 개스킷이 있는 CF(ConFlat) |
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| 최종 압력 | ≤1x10⁻⁸ Pa |
| 누출 감지 | 헬륨 질량 분석기, ≤1x10⁻¹¹ Pa·m³/s |
| 최대 베이킹 온도 | 250°C |
| 용접 방법 | 내부 퍼지 기능이 있는 오비탈 TIG생산 유형OEM / ODM |
| 응용 분야 | 이 UHV 전해 연마 진공 챔버는 분자빔 에피탁시(MBE) 시스템, 이온 주입 스테이션 및 플라즈마 강화 증착 반응기를 포함한 반도체 웨이퍼 처리 장비의 핵심 역할을 하며, 여기서 미량의 오염도 장치 수율과 성능을 저하시킬 수 있습니다. 표면 과학 실험실에서 이 챔버는 X선 광전자 분광법(XPS), 오제 전자 분광법(AES) 및 주사 터널링 현미경(STM) 실험을 가능하게 하여 UHV 조건에서 유지되는 원자적으로 깨끗한 표면을 요구합니다. 이 챔버는 입자 가속기 빔라인 부품, 싱크로트론 방사선 종단 스테이션 및 잔류 가스 분석 및 오염 제어가 임무에 중요한 우주 인증 테스트 시설에도 적합합니다. 추가 적용 분야에는 고급 재료 개발을 위한 UHV 어닐링 퍼니스 및 양자 장치 제작을 위한 박막 성장 챔버가 있습니다.포장 및 품질 보증최종 헬륨 누출 인증 및 진공 베이킹 후, 각 UHV 챔버는 건조 질소로 다시 채워지고 보호용 CF 블랭크 플랜지 및 구리 개스킷으로 밀봉되며, 정전기 방지 클린룸 등급 포장재에 이중으로 포장된 후 질소 퍼지 처리된 목재 운송 상자에 넣어집니다. 문서 패키지에는 개별 헬륨 누출 테스트 보고서, 열 번호가 포함된 재료 인증서, 전해 연마 표면 거칠기 측정값, 치수 준수 기록 및 선적 전 베이킹 로그가 포함됩니다. SYNVAC는 시스템 통합, UHV 작동 절차 및 장기 성능 유지 관리를 위한 포괄적인 보증 범위와 전담 응용 엔지니어링 지원을 제공합니다. |
담당자: Mr. Edison yang
전화 번호: 13218150898