|
Productdetails:
Contact
Chat Nu
|
| Lichaamsmateriaal: | 304L of 316L roestvrij staal | Oppervlakteafwerking: | Elektrolytisch gepolijst (Ra ≤0,4μm) |
|---|---|---|---|
| Ultieme druk: | ≤1x10 -8 Pa | Flenstype: | CF (ConFlat)-standaard |
| Verzegelingsmechanisme: | OFHC koperen pakking | Uitwarmtemperatuur: | Tot 250°C |
| Markeren: | UHV-vacuümkamer,elektrolytisch gepolijste vacuümbehuizing,lage ontgassing vacuüm tank |
||
Deze UHV-kwaliteit elektrolytisch gepolijste roestvrijstalen vacuümkamer is speciaal gebouwd voor ultra-hoogvacuümtoepassingen in halfgeleiderverwerking, onderzoek naar oppervlaktewetenschappen en karakterisering van geavanceerde materialen. De kamer is vervaardigd uit koolstofarm 304L of 316L roestvrij staal en heeft een volledig elektrolytisch gepolijst binnenoppervlak met een gemiddelde ruwheid (Ra) van 0,4 μm of beter, waardoor het effectieve oppervlak drastisch wordt verminderd en moleculaire ontgassing wordt geminimaliseerd. Alle flenzen voldoen aan de CF (ConFlat) standaard met zuurstofvrije hooggeleidende (OFHC) koperen pakkingafdichting, wat betrouwbare werking mogelijk maakt bij drukken tot 1x10-8 Pa en lager. Elke kamer wordt zorgvuldig heliumlek getest en vacuüm gebakken voor verzending, wat zorgt voor direct inzetbare UHV-gereedheid voor de meest gevoelige experimentele en productieomgevingen voor contaminatie.
Belangrijkste Kenmerken| Parameter | Specificatie |
|---|---|
| Behuizingsmateriaal | 304L of 316L Roestvrij Staal |
| Binnenoppervlak Afwerking | Elektrolytisch Gepolijst, Ra ≤0,4 μm |
| Flenzen Standaard | CF (ConFlat) met OFHC Koperen Pakkingen |
| Uiteindelijke Druk | ≤1x10-8 Pa |
| Lekdetectie | Helium Massaspectrometer, ≤1x10-11 Pa·m3/s |
| Maximale Baktemperatuur | 250°C |
| Lasproces | Orbitale TIG met Interne Spoeling |
| Productietype | OEM / ODM |
Deze UHV elektrolytisch gepolijste vacuümkamer vormt de kritieke kern van apparatuur voor halfgeleiderwaferverwerking, waaronder moleculaire bundel epitaxie (MBE) systemen, ionen-implantatiestations en plasma-geïnduceerde depositie reactoren waar zelfs sporen van contaminatie de opbrengst en prestaties van apparaten kunnen beïnvloeden. In laboratoria voor oppervlaktewetenschappen maakt de kamer experimenten mogelijk met röntgenfoto-elektronenspectroscopie (XPS), Auger-elektronenspectroscopie (AES) en scanning tunneling microscopie (STM) die atomair schone oppervlakken vereisen die onder UHV-omstandigheden worden gehandhaafd. De kamer is even geschikt voor deeltjesversneller straalcomponenten, synchrotronstraling eindstations en faciliteiten voor ruimtekwalificatietesten waar restgas analyse en contaminatiecontrole cruciaal zijn. Aanvullende toepassingen zijn UHV-gloeianneerovens voor de ontwikkeling van geavanceerde materialen en dunne-film groeikamers voor de fabricage van kwantumapparaten.
Verpakking & KwaliteitsborgingNa de definitieve heliumlekcertificering en vacuüm bakbeurt wordt elke UHV-kamer gevuld met droge stikstof, afgedicht met beschermende CF-blinde flenzen en koperen pakkingen, en dubbel verpakt in antistatische verpakking van cleanroomkwaliteit voordat deze in een met stikstof gespoelde houten verzendkrat wordt geplaatst. Documentatiepakketten bevatten individuele heliumlektestrapporten, materiaalcertificaten met chargenummers, metingen van de oppervlakte ruwheid na elektrolytisch polijsten, records van dimensionale conformiteit en een logboek van de bakbeurt voor verzending. SYNVAC biedt een uitgebreide garantie en toegewijde ondersteuning voor applicatie-engineering voor systeemintegratie, UHV operationele procedures en onderhoud van prestaties op lange termijn.
Contactpersoon: Mr. Edison yang
Tel.: 13218150898