Tees ISO para sistemas de vacío: ramificaciones versátiles para líneas de vacío medianas y grandes

Descripción del Producto

Tees ISO para sistema de vacío.son accesorios de precisión de tres puertos diseñados para dividir, combinar o redirigir el flujo de gas mientras mantienen la integridad del alto vacío desde presión atmosférica hasta 10⁻⁹ Torr. También conocidos como tes derivadas de vacío ISO o tees iguales, estos componentes cuentan con una línea principal directa con un puerto de derivación perpendicular, geometrías internas suaves y bridas ISO-K o ISO-F en los tres puertos.

Fabricadas con acero inoxidable 304L o 316L de alta calidad, las T ISO son esenciales para colectores de vacío, puertos de instrumentación, centros de distribución de gas y redes de bombeo en sistemas de vacío de mediana y gran escala. Cumplen con los estándares internacionalmente reconocidos ISO 1609, ISO 2861 y Pneurop 6606. A diferencia de los accesorios KF, que están limitados a diámetros más pequeños (hasta DN50), las T ISO están disponibles para diámetros nominales desde DN63 hasta DN630, lo que las convierte en la opción estándar para aplicaciones industriales y de investigación. Ya sea que esté agregando un manómetro, conectando un analizador de gas residual (RGA), construyendo un colector de mezcla de gas o ramificando una línea de bombeo, estas tes brindan la conductancia, flexibilidad y confiabilidad que requieren las exigentes aplicaciones de alto vacío y UHV.

Características y características clave

• Configuración:Verdadera T de tres puertos (línea principal directa con rama perpendicular)

• Tipos de bridas:ISO-K (abrazadera con anillo centrador) o ISO-F (atornillada)

• Tamaños de puerto:Los tres puertos del mismo tamaño (T igual) o T reductora con diámetros mixtos

• Rango de vacío:Atmosférico a 1×10⁻⁹ Torr (compatible con UHV con sellos metálicos)

• Diámetros Nominales (DN):DN63, DN80, DN100, DN160, DN200, DN250, DN320, DN400, DN500, DN630

• Material:Acero inoxidable 304L o 316L (bajo en carbono, compatible con UHV)

• Acabado de la superficie interna:Ra ≤ 0,8 µm (electropulido o pulido mecánico)

• Tasa de desgasificación:< 2×10⁻⁸ Torr·L/s·cm² (después de aspirar)

• Integridad de la fuga:Fuga de helio probada a < 1×10⁻⁹ mbar·L/s

• Capacidad de horneado:Hasta 400°C (ISO-F con juntas metálicas)

• Orientación de sucursales:90° perpendicular al eje principal (estándar)

Aplicaciones

• Colectores de vacío:Redes de distribución multipuerto para bombeo y venteo.

• Puertos de instrumentación:Conexión de manómetros, RGA, manómetros de iones y cuadrupolos

• Líneas de introducción de gas:Admisión de gases de proceso en cámaras de deposición

• Sistemas de recubrimiento a gran escala:PVD semiconductor, óptico y decorativo

• Deposición de película delgada:Sputtering, evaporación y plomería del sistema ALD

• Detección de fugas de helio:Creación de ramas en T para conexiones de puertos de prueba

• Instrumentos analíticos:Espectrómetros de masas, herramientas de análisis de superficies.

• Equipos semiconductores:Cerraduras de carga, cámaras de transferencia y módulos de proceso

• Sistemas de vacío de I+D:Configuraciones experimentales flexibles que requieren múltiples puntos de acceso

• Cámaras de simulación espacial:Ramas de instrumentación de sistemas de vacío térmico.

• Líneas de luz de investigación:Sistemas de vacío sincrotrón y acelerador de partículas.

• Sistemas delanteros:Ramificación entre bombas previas y bombas de alto vacío

¿Por qué elegir nuestras camisetas ISO para sistemas de vacío?

Combinamos forjado de precisión, mecanizado CNC y soldadura orbital para ofrecer tees ISO que cumplen o superan los estándares internacionales de vacío. Cada T se somete a pruebas de fugas de helio, se limpia ultrasónicamente con detergentes de grado semiconductor y se coloca en una doble bolsa en un entorno de sala limpia. Tes reductoras (diferentes diámetros de rama), tipos de bridas mixtas (ISO-K e ISO-F en la misma T), orientaciones de rama personalizadas y acabados de grado UHV (listo para sello metálico, Ra ≤ 0,4 µm) están disponibles con soporte de ingeniería.