Tees ISO pour système sous vide: ramification polyvalente pour les lignes de vide moyennes à grandes

Description du produit

Étiquettes ISO pour le système sous videsont des raccords de précision à trois ports conçus pour scinder, combiner ou rediriger le flux de gaz tout en maintenant une grande intégrité sous vide à partir de la pression atmosphérique jusqu'à 10−9 Torr.Également connu sous le nom de tees ISO sous vide ou tees égales, ces composants sont dotés d'une ligne principale droite avec une branche perpendiculaire, des géométries internes lisses et des brides ISO-K ou ISO-F sur les trois portes.

Fabriqués en acier inoxydable 304L ou 316L de haute qualité, les écouteurs ISO sont essentiels pour les collecteurs sous vide, les ports d'instrumentation, les plaques tournantes de distribution de gaz,et réseaux de pompage dans les systèmes à vide à moyenne et grande échelleIls sont conformes aux normes internationalement reconnues ISO 1609, ISO 2861 et Pneurop 6606.Les tests ISO sont disponibles pour les diamètres nominaux de DN63 à DN630, ce qui en fait le choix standard pour les applications industrielles et de recherche. Que vous ajoutiez un manomètre de pression, que vous connectiez un analyseur de gaz résiduel (RGA), que vous construisiez un collecteur de mélange de gaz,ou brancher une ligne de pompage, ces tees offrent la conductivité, la flexibilité et la fiabilité requises par les applications exigeantes à haut vide et UHV.

Principales caractéristiques

• La configuration:Véritable tee à trois portes (ligne principale droite avec branche perpendiculaire)

• Les types de brides:ISO-K (clampe avec anneau de centralisation) ou ISO-F (boulonné)

• Taille du port:Tous les trois ports de même taille (équivaut à un tee) ou à un tee réducteur de diamètres mixtes

• Plage de vide:Atmosphérique à 1×10−9 Torr (UHV compatible avec les joints métalliques)

• Détecteurs de gaz:DN63, DN80, DN100, DN160, DN200, DN250, DN320, DN400, DN500 et DN630

• Matériau:Acier inoxydable 304L ou 316L (faible teneur en carbone, compatible UHV)

• Finition de surface interne:Ra ≤ 0,8 μm (électropoli ou poli mécaniquement)

• Taux de dégazage:< 2×10−8 Torr·L/s·cm2 (après nettoyage sous vide)

• Intégrité des fuites:Fuite d'hélium testée à < 1 × 10−9 mbar·L/s

• Capacité de cuisson:Jusqu'à 400 °C (ISO-F avec joints métalliques)

• Indications pour les filiales:90° perpendiculaire à l'axe principal (norme)

Applications

• Les collecteurs sous vide:Réseaux de distribution multi-ports pour le pompage et la ventilation

• Ports de réglage:Connexion de jauges de pression, de jauges de pression, de jauges d'ions et de quadrupoles

• lignes d'entrée de gaz:Entrée de gaz de procédé dans les chambres de dépôt

• Systèmes de revêtement à grande échelle:PVD à semi-conducteurs, optiques et décoratifs

• Dépôt en couches minces:Sputtering, évaporation et plomberie du système ALD

• Détection de fuite d'hélium:Création de branches en T pour les connexions au port d'essai

• Instruments d'analyse:Spéctromètres de masse, outils d'analyse de surface

• Équipement de semi-conducteurs:Équipements pour la fabrication de lampes et de lampes

• Systèmes sous vide de R&D:Configurations expérimentales flexibles nécessitant plusieurs points d'accès

• Chambres de simulation spatiale:Branches d'instruments de systèmes à vide thermique

• Les lignes de lumière de recherche:Systèmes à vide à synchrotron et à accélérateur de particules

• Systèmes de ligne avant:Branchement entre les pompes de soutien et les pompes à haute vacuité

Pourquoi choisir nos tees ISO pour les systèmes sous vide?

Nous combinons le forgeage de précision, l'usinage CNC et le soudage orbital pour fournir des tees ISO qui répondent ou dépassent les normes internationales de vide.nettoyés par ultrasons avec des détergents de qualité semi-conducteur, et en double sac dans un environnement de salle blanche. réducteurs de tissu (différents diamètres de branche), types de brides mixtes (ISO-K et ISO-F sur le même tissu), orientations de branche personnalisées,et les finitions de qualité UHV (coupes métalliques prêtes, Ra ≤ 0,4 μm) sont disponibles avec le soutien de l'ingénierie.