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6061-T6 Cámara de vacío de aluminio para semiconductores de alta resistencia

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6061-T6 Cámara de vacío de aluminio para semiconductores de alta resistencia

6061-T6 Aluminum Vacuum Chamber For Semiconductor High Strength
6061-T6 Aluminum Vacuum Chamber For Semiconductor High Strength

Ampliación de imagen :  6061-T6 Cámara de vacío de aluminio para semiconductores de alta resistencia

Datos del producto:
Nombre de la marca: SYNVAC
Pago y Envío Términos:
Cantidad de orden mínima: 1 Uds.
Detalles de empaquetado: cajas de madera
Tiempo de entrega: 8-10 semanas
Condiciones de pago: T/T, LC/C

6061-T6 Cámara de vacío de aluminio para semiconductores de alta resistencia

descripción
Resaltar:

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Cámara de vacío de aluminio de alta resistencia

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Cámara de vacío de aluminio: ligera, de alta conductividad y optimizada para el escape de gases

Descripción del producto

ElCámara de vacío de aluminioes una cubierta de ingeniería de precisión diseñada para aplicaciones de vacío bajo a mediano donde la reducción de peso y la gestión térmica son críticas.Esta cámara ofrece un rendimiento excepcional en los laboratorios de investigación., sistemas de deposición de película delgada, detección de fugas y pruebas ambientales.

A diferencia de las alternativas de acero inoxidable, una cámara de vacío de aluminio ofrece ciclos de bombeo más rápidos debido a su menor tasa de desgasificación después de un tratamiento de superficie adecuado.Cada unidad se fabrica utilizando protocolos de soldadura estrictos y se termina con un revestimiento anodizado o anticorrosión duro para garantizar la integridad del vacío hasta 10-6 Torr (rango de vacío alto)Ya sea que necesite una pequeña cámara cúbica para I+D o un recipiente cilíndrico grande para revestimiento industrial, esta solución combina fiabilidad estructural con eficiencia operativa.

Características clave y características

 

 

  • El material:6061-T6 Aleación de aluminio (alta resistencia, excelente maquinabilidad)

  • Rango de vacío:Atmosférica a 1×10−6 Torr (Alto vacío listo)

  • Tasa de desgasificación:< 2×10−8 Torr·L/cm2 (después de limpieza y horneado)

  • Configuración del puerto:Los accesorios CF (ConFlat), KF (Quick Flange) o ISO se pueden personalizar

  • El acabado de la superficie:Superficies interiores anodizadas duras (50 μm) o electropolinizadas

  • Integridad de la fuga:Las fugas de helio probadas con < 1×10−9 mbar·L/s

  • Temperatura de funcionamiento:-20°C a 150°C (dependiendo de los sellos utilizados)

  • Peso:Hasta un 50% más ligeras que las cámaras de acero inoxidable comparables

  • Volumen interno:Personalización de 0,5 litros a más de 200 litros

Aplicaciones

Deposición de película fina:El objetivo de la presente Directiva es garantizar que los productos de los productos de la Unión incluidos en la lista de productos de la Unión incluidos en la lista de productos de la Unión incluidos en la lista de productos de la Unión incluidos en la lista de productos de la Unión incluidos en la lista de productos de la Unión incluidos en la lista de productos de la Unión incluidos en la lista de productos de la Unión incluidos en la lista de productos.

Instrumentos analíticos:Cámaras de preparación de muestras SEM/FIB, espectrometría de masas

Detección de fugas:Estaciones de ensayo de fugas de helio

Laboratorios de I+D:Pruebas en hornos al vacío, estudios de desgasificación de materiales

 

 

Por qué nuestra cámara de vacío de aluminio funciona mejor

Combinamos el mecanizado CNC de precisión con la soldadura TIG por soldadores de vacío certificados.y verificación de la rugosidad de la superficie (Ra ≤ 0)Para los requisitos de vacío ultraalto (UHV), ofrecemos horneado al vacío y preparación de bridas de sellado metálico.

 

Llamamiento a la acción:Solicite una cotización personalizada de la cámara de vacío de aluminio hoy mismo, cargue su dibujo del diseño del puerto o su nivel de vacío objetivo para un análisis de viabilidad de ingeniería el mismo día.

 

Contacto
Kunshan SYNVAC Vacuum Equipment Co.,LTD

Persona de Contacto: Mr. Edison yang

Teléfono: 13218150898

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